ANALYSE DE SURFACE
SIMS : Spectrométrie de masse d'ions secondaires à secteur magnétique (méthode dynamique, permettant les profils en profondeur).
TOF-SIMS : Spectrométrie de masse d'ions secondaires à temps de vol (méthode statique, permettant les analyses dans les premières couches moléculaires de la surface).
XPS-AUGER : Analyse des éléments et liaisons chimiques dans les premières couches atomiques et moléculaires de la surface.
Applications:
Technologie des semiconducteurs, traitement des surfaces, analyse de cas de corrosion, adhésion, contamination moléculaire,…
Les profils en profondeur d'éléments d'alliage obtenus en SIMS dynamique montrent un enrichissement en oxyde de chrome (Cr et O) dans la couche de passivation (épaisseur 5 nm) d'un acier Cr-Ni.