OBERFLÄCHENANALYSE
SIMS : Sekundär-Ionen-Massen-Spektrometrie (dynamische Methode, welche die Profile in der Tiefe erlaubt).
TOF-SIMS : Flugzeit-sekundär Ionen-Massenspektrometrie (statische Methode, welche die Analysen in den ersten molekularen Schichten einer Oberfläche erlaubt).
XPS-AUGER : Analyse der chemischen Elemente und Verbindungen in den ersten atomaren und molekularen Schichten der Oberfläche.
Anwendungen:
Halbleiter-Technologie, Oberflächenbehandlung, Korrosionsuntersuchung, Oberflächenhaftung, molekulare Kontamination, usw.
Die Tiefenprofile des Legierungselements wurden mittels Dynamik-SIMS erhalten. Sie zeigen eine Anreicherung an Chromoxyd in der Passivierungsebene (5 nm Dicke) von einem Chrom-Nickel Stahl.
